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大永真空設備股份有限公司
产品描述 :
高功率脈衝磁控濺鍍系統(HiPIMS ,High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術,透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流,得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的電子密度的高密度電漿,而此HIPIMS鍍膜系統可有效提高被濺射粒子的離化率,並可在低基材溫度下得到無孔隙、緻密度高、結晶性佳的薄膜。
HiPIMS 技術的關鍵核心為電源供應器,大永真空獨立HiPIMS電源供應器設計結合單一靶座。將直流電源供應器的電能累積至充電電壓可達數百、數千伏特的脈沖模組電容中,再以電晶體控制放電的脈衝時間、脈衝頻率,以產生高密度電漿於獨立靶面,將靶面中毒的機率降至最低,增加靶材離化率與利用率,節省大量鍍膜成本。
大永DYHC系列HiPIMS濺鍍設備優秀的電源與腔體設計使其擁有高電漿密度(1018~19e-/m3)、高離化率(70~100%)的特點,使薄膜有良好的緻密性、附著性、平整性及抗腐蝕的特性。較低的佔空比(<5%),使製程溫度大幅降低,基板的選擇也更多,如軟性基板PEN、PET等。
詳情請參考:https://zh-tw.dahyoung.com/
雷尼紹股份有限公司
产品描述 :
多感測器 5 軸量測系統<br />
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REVO 系統使用同步運動和 5 軸量測技術,在超高量測速度下,大幅減少 CMM 運動的動態影響。這正是藉由 REVO-2 測頭座進行快速運動,同時讓 CMM 以線性緩慢方式運動達成。使用彈性的端部感應測頭,進一步增加系統的精度和效能。可拆式測頭系統與低成本更換器搭配使用,可提高系統彈性。<br />
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速度、精度、靈活性<br />
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作為新設備或認證升級,REVO® 5 軸量測系統提供:<br />
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• 表面光潔度量測和尺寸檢測。<br />
• 省下 15% 至 50% 循環時間。<br />
• 充分發揮產能,大幅降低資本投資。