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数位转型
绿色转型
台灣大昌華嘉股份有限公司
产品描述 :
具有一個基於熱泵的加熱系統，在5KPa和大約30°C (86°F)的真空環境下運行。
熱交換發生在圓錐形加熱套內，沸騰室內部元件通過連續攪拌濃縮物的內部刮板，用於生產最終高濃度的廢棄物和低電導率的蒸餾物。
R系列蒸發器的生產能力為每天150升到2000升，採用幾種不同的系統來排放濃縮物
每一款EVALED™產品的蒸發過程均採用PLC進行控制，調節待處理廢水的自動進水以及蒸餾物和濃縮物的排放，僅需要操作員進行最少的監控
R系列蒸發器根據進水的性質採用不同的合金製成，尤其可用於處理腐蝕性廢水。
PC R蒸發器以半間歇模式運行：連續吸入廢水。達到要求的濃度時，濃縮液將分批排出，餾出物則是連續排放。
【適用情況】
•廢水中的溶解或懸浮物質初始含量高
•廢水已經經過預濃縮
•日濃縮量相對較小
•蒸餾物必須具有最佳品質
•濃縮物必須再循環使用
【適用行業】
•填埋和廢物處理
•平面造型藝術
•化學工業
•電力行業
HYDROKOMP GmbH
产品描述 :
The rotary lever clamp is especially suited for clamping fixtures with only little space for the installation of clamping elements. Its construction and compact design allows flexible solutions at various installation conditions. HYDROKOMP offers hydraulic rotary lever clamps which are single-acting as well double-acting. They are used in clamping fixtures whose oil supply is made through drilled channels. To swing down the clamping arm, the linear motion is used pro rata which clamps the workpiece. To unclamp, the clamping arm swings back to where the workpiece can be safely taken out.
大永真空設備股份有限公司
产品描述 :
高功率脈衝磁控濺鍍系統(HiPIMS ，High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術，透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流，得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的電子密度的高密度電漿，而此HIPIMS鍍膜系統可有效提高被濺射粒子的離化率，並可在低基材溫度下得到無孔隙、緻密度高、結晶性佳的薄膜。
HiPIMS 技術的關鍵核心為電源供應器，大永真空獨立HiPIMS電源供應器設計結合單一靶座。將直流電源供應器的電能累積至充電電壓可達數百、數千伏特的脈沖模組電容中，再以電晶體控制放電的脈衝時間、脈衝頻率，以產生高密度電漿於獨立靶面，將靶面中毒的機率降至最低，增加靶材離化率與利用率，節省大量鍍膜成本。
大永DYHC系列HiPIMS濺鍍設備優秀的電源與腔體設計使其擁有高電漿密度(1018~19e-/m3)、高離化率(70～100%)的特點，使薄膜有良好的緻密性、附著性、平整性及抗腐蝕的特性。較低的佔空比(<5%)，使製程溫度大幅降低，基板的選擇也更多，如軟性基板PEN、PET等。
詳情請參考：https://zh-tw.dahyoung.com/
