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大永真空設備股份有限公司
产品描述 :
高功率脈衝磁控濺鍍系統(HiPIMS ，High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一種以高功率脈衝電源進行磁控濺鍍的技術，透過產生比傳統直流濺鍍模式要高上數十倍之瞬間脈衝電流，得到比直流濺鍍要高上百倍至萬倍的電子密度的高密度電漿，而此HIPIMS鍍膜系統可有效提高被濺射粒子的離化率，並可在低基材溫度下得到無孔隙、緻密度高、結晶性佳的薄膜。
HiPIMS 技術的關鍵核心為電源供應器，大永真空獨立HiPIMS電源供應器設計結合單一靶座。將直流電源供應器的電能累積至充電電壓可達數百、數千伏特的脈沖模組電容中，再以電晶體控制放電的脈衝時間、脈衝頻率，以產生高密度電漿於獨立靶面，將靶面中毒的機率降至最低，增加靶材離化率與利用率，節省大量鍍膜成本。
大永DYHC系列HiPIMS濺鍍設備優秀的電源與腔體設計使其擁有高電漿密度(1018~19e-/m3)、高離化率(70～100%)的特點，使薄膜有良好的緻密性、附著性、平整性及抗腐蝕的特性。較低的佔空比(<5%)，使製程溫度大幅降低，基板的選擇也更多，如軟性基板PEN、PET等。
詳情請參考：https://zh-tw.dahyoung.com/
台灣大昌華嘉股份有限公司
产品描述 :
•真空條件，低溫（7-9 kPa，30-40°C）
•臭氧友好型製冷氣體（R 134）
•電力消耗（150千瓦時/噸餾出物）
•適用於小容量
PC F 蒸發器
如同所有的熱泵設備，F系列蒸發器必須與電源連接，同時必須配有高可用性冷卻空氣。每款F系列蒸發器均採用緊湊型模塊，可通過標準連接件簡單方便地進行操作和連接到公用設備上。
F系列蒸發器均配有各種型號的傳感器，使得PLC即使在緊急情況下也能夠自動管理蒸發器。這種配置確保了部件的長久使用壽命以及極高品質的產出（蒸餾物和濃縮物）。
所有這些型號的蒸發器均設計為24/7 連續運行，所需要的監控最少。
F系列蒸發器在高度真空的環境中運行，回收熱泵產生的大部分熱能。
室內沸騰的壓力設置為5-6 KPa（絕對壓力），因此水的沸騰溫度為大約35°C，遠遠低於大氣壓力下的沸騰溫度。
【產品優勢】
•優良的蒸餾物品質
•完工和後處理減少
•熱效率高
•電能消耗少
•停機次數減少
•清潔和維護工作減少
•使用壽命延長
【適用領域】
•機械行業
•鋁模鑄造
•填埋和廢物處理
•平面造型藝術
•電力行業和表面處理
•食品和飲料行業
•化學工業
